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NEE-4000 (A) 全自动电子束蒸发系统物理气相沉积(PVD)那诺-马斯特 E-Beam Evaporation 电子束蒸发镀膜
点击查看下载NEE-4000 (A) 全自动电子束蒸发系统物理气相沉积(PVD)那诺-马斯特 E-Beam Evaporation 电子束蒸发镀膜相关资料,进一步了解产品。 NEE-4000
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NEE-4000 (A) 全自动电子束蒸发系统
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NEE-4000 (M)那诺-马斯特NEE-4000 (M) 电子束蒸发系统 E-Beam Evaporation 电子束蒸发镀膜
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高精度薄膜制备与加工系统-MiniLab
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德国徕卡 高真空镀膜仪 EM ACE600
EM ACE600是优良的多用途高真空薄膜沉积系统,设计来根据您的FE-SEM和TEM应用的需要生产非常薄的,细的和导电的金属和碳涂层,用于最高分辨率分析。这种高真空镀膜机可以通过以下方法进行配置
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450型电子束蒸发镀膜系统
产品简介:450型电子束蒸发镀膜系统用于制备导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜等,广泛应用于大专院校、科研机构的科研及小批量生产。产品型号450型电子束蒸发镀膜系统技术参数系统主要由蒸发真空室
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KRi 离子源 e-beam 电子束蒸发系统辅助镀膜应用
电流高能量宽束型离子束, 通过同时的或连续的离子轰击表面使原子(分子)沉积在衬底上形成薄膜, 实现辅助镀膜 IBAD. e-beam 电子束蒸发系统加装 KRi 离子源作用通过向生长的薄膜中添加能量来
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电子束蒸发系统
增强化学气相淀积系统PECVD/ICP Etcher、电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积、离子泵等; 电子束蒸发系统: 1.膜电子束蒸发系统E -Beam Evaporation
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